詳細摘要： 這些i-line步進器具有與尼康DUV掃描儀相同的縮小率和視場大小，是曝光次臨界層的理想選擇，這些層大約占設備20層或更多層的一半
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時間：2025-11-24 在線留言污水處理設備 污泥處理設備 水處理過濾器 軟化水設備/除鹽設備 純凈水設備 消毒設備|加藥設備 供水/儲水/集水/排水/輔助 水處理膜 過濾器濾芯 水處理濾料 水處理劑 水處理填料 其它水處理設備
青島佳鼎分析儀器有限公司
青島佳鼎分析儀器有限公司
詳細摘要： 這些i-line步進器具有與尼康DUV掃描儀相同的縮小率和視場大小，是曝光次臨界層的理想選擇，這些層大約占設備20層或更多層的一半
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時間：2025-11-24 在線留言
詳細摘要： TWINSCANNXT:1970Ci步進掃描系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級浸沒式光刻工具，專為在成熟節(jié)點批量生產(chǎn)300毫米晶圓而設計
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時間：2025-11-24 在線留言
詳細摘要： Nikon分步投影光刻機NSR-S204B，用于集成電路生產(chǎn)過程中的微光刻工藝，通過投影成像方式，把掩模版上集成電路圖形以高分辨率、高精度、高效率的方式分步重復...
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時間：2025-11-24 在線留言
詳細摘要： 尼康NikonArF掃描光刻機NSR-S322F裝載了在液浸式裝置中取得優(yōu)秀業(yè)績的StreamlignPlatform，同時進一步提高了重合精度與生產(chǎn)效率
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時間：2025-11-24 在線留言
詳細摘要： PAS5500/750CDUV步進掃描系統(tǒng)使用成熟的248nmKrF技術，可以實現(xiàn)130nm的大規(guī)模生產(chǎn)
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時間：2025-11-24 在線留言
詳細摘要： 支持多重曝光、實現(xiàn)了超高精度與高產(chǎn)出的ArF液浸式掃描光刻機ArF液浸式掃描光刻機NSR-S622D ArF液浸式掃描光刻機NSR-S622D專為20nm以下制...
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時間：2025-11-24 在線留言
詳細摘要： 2001年12月5日，ASML推出了款具有110nm分辨率的KrF(248nm)StepScan300mm雙級光刻系統(tǒng)
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時間：2025-11-24 在線留言
詳細摘要： i線步進式光刻機NSR-SF155適用于廣泛的半導體器件的制造
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時間：2025-11-24 在線留言
詳細摘要： ASML 步進式掃描DUV光刻機 ArF曝光機 NXT1970Ci/1980Di
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時間：2025-11-24 在線留言
詳細摘要： ASML二手翻新DUV光刻機NXT:1965Ci，采用193nmARF曝光光源，分辨率38nm，產(chǎn)能250wph
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時間：2025-11-24 在線留言
詳細摘要： ASML二手現(xiàn)貨DUV光刻機XT:400L，分辨率350nm，產(chǎn)能230wph
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時間：2025-11-24 在線留言
詳細摘要： ASML二手現(xiàn)貨DUV光刻機XT:860M，采用248nmKRF光源，分辨率110nm，產(chǎn)能240wph
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時間：2025-11-24 在線留言
詳細摘要： ASML二手翻新現(xiàn)貨DUV光刻機XT:1060K，采用248nmKRF曝光光源，分辨率80nm，產(chǎn)能205wph
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時間：2025-11-24 在線留言
詳細摘要： ASML二手翻新現(xiàn)貨ARF光刻機AT:1100是一款步進式ARF掃描儀，可在300mm的晶圓上進行100nm體積的生產(chǎn)
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時間：2025-11-24 在線留言
詳細摘要： ASMLi-line光刻機PAS5500/450F是i-line步進器系列的、的產(chǎn)品之一
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時間：2025-11-24 在線留言
詳細摘要： ASMLPAS5500/275D是一款高吞吐量i-line步進機
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時間：2025-11-24 在線留言
詳細摘要： ASML推出了一種用于0.35微米成像的新型i-line光刻系統(tǒng)，旨在幫助客戶從0.5微米以上的制造技術過渡到更嚴格的分辨率
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時間：2025-11-24 在線留言
詳細摘要： ASML二手翻新現(xiàn)貨KrF光刻機AT:750是248nm深紫外系統(tǒng)
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時間：2025-11-24 在線留言
詳細摘要： ASMLArF光刻機AT:1200作為其綜合成像設施的一部分，SUNYPoly擁有一臺TWINSCANAT:1200193nm“干式"掃描儀；（0.85NA）
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時間：2025-11-24 在線留言
詳細摘要： ASML二手翻新現(xiàn)貨ArF光刻機AT:1100采用193nmArF曝光光源，針對于300mm晶圓處理的雙級光刻平臺
產(chǎn)品型號：所在地：青島市更新時間：2025-11-24 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
環(huán)保在線 設計制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼