產(chǎn)品介紹
NMP微量水分分析儀，采用分體式設(shè)計，主要有光譜傳感器和多功能主機組成，利用近紅外吸收光譜原理，通過傳感器測量，多功能主機顯示及控制。
儀表觸液面材質(zhì)可選SUS316L、哈氏合金、鈦、PFA等，外殼可選鋁合金和不銹鋼，便于滿足不同腐蝕性介質(zhì)的應(yīng)用需求。產(chǎn)品的防爆等級為ExdIIBT4/T6 或 ExdIICT4/T6，有著IP65的防護等級，確保在危險環(huán)境中的安全可靠運行。采用DN25規(guī)格旁路管道安裝方式，易于安裝和維護。
產(chǎn)品優(yōu)點
產(chǎn)品具有高穩(wěn)連續(xù)光源、恒溫探測器、全自動清洗、痕量水測量等特點。
產(chǎn)品優(yōu)勢
不用對樣品預(yù)處理，無需試劑耗材，整個測量過程秒量級。
長達3萬小時的超長壽命光源，降低使用和維護成本。
可選配組件對光學(xué)窗口進行全自動清洗，避免污染對測量造成偏差。
光源的強度全自動調(diào)節(jié)，避免因光源衰減造成檢測精度降低。
儀表在檢測過程中無機械動作，確保使用穩(wěn)定。
多年經(jīng)驗算法使測量結(jié)果不受檢測對象中固體雜質(zhì)、結(jié)晶體的影響。
支持上位機通訊，4-20mA&RS485信號輸出。
支持報警及控制等開關(guān)量信號輸出。
支持數(shù)據(jù)建模功能，可定制數(shù)據(jù)模型。
微量水控制不當產(chǎn)生的影響
嚴格控制NMP（N-甲基吡咯烷酮）中的微量水分至關(guān)重要，主要體現(xiàn)在以下幾個方面：
首先，水分會引發(fā)NMP的水解反應(yīng)，導(dǎo)致其變質(zhì)，這是最嚴重的影響。
NMP在高溫或堿性條件下容易發(fā)生水解，生成如4-甲氨基丁酸等酸性物質(zhì)，這些產(chǎn)物還可能進一步聚合形成酰胺類或酯類聚合物。其結(jié)果不僅會使NMP純度下降、性質(zhì)發(fā)生改變（如顏色加深、酸值升高），還可能因聚合物形成而造成設(shè)備與管道結(jié)垢堵塞，增加維護成本，嚴重影響生產(chǎn)的連續(xù)性和穩(wěn)定性。
在鋰離子電池制造過程中，NMP作為電極漿料的關(guān)鍵溶劑，對水分含量的控制嚴格。水分過高會與正極材料或粘結(jié)劑發(fā)生不良反應(yīng)，導(dǎo)致漿料粘度不穩(wěn)定、出現(xiàn)沉降和結(jié)塊，進而影響涂布工藝質(zhì)量。在電極涂布與烘干階段，水分易造成涂層氣泡、針孔、裂紋等缺陷，降低電極的一致性和良品率。更嚴重的是，殘留水分會與電解液中的鋰鹽反應(yīng)，生成HF等腐蝕性物質(zhì)，損害電極結(jié)構(gòu)，消耗活性鋰，引起電池容量快速衰減、內(nèi)阻增大，甚至帶來脹氣、熱失控等安全隱患。
此外，當NMP作為有機合成反應(yīng)的溶劑時，微量水分可能作為雜質(zhì)毒化催化劑、抑制反應(yīng)進程或改變反應(yīng)路徑，導(dǎo)致主反應(yīng)產(chǎn)率降低、副產(chǎn)物增多，最終影響合成效率與產(chǎn)品純度。在許多應(yīng)用場景中，即使微量水分也會被視為不可接受雜質(zhì)，直接影響最終產(chǎn)品的性能和質(zhì)量可靠性。
技術(shù)參數(shù)
| 產(chǎn)品型號 | CYS-EX-CAW-NMP |
| 測量范圍 | 0至1000ppm |
| 光程范圍 | 1至50mm（可定制） |
波長范圍 | 900至2500nm特定光譜 |
| 重復(fù)精度 | <±0.5%，與量程有關(guān) |
光 源 | 鎢燈，使用壽命≥30000小時 |
測量時間 | 0.1秒至60秒 |
環(huán)境溫度 | -20℃至+50℃ |
過程溫度 | -30℃至+150℃，特殊溫度可定制 |
光學(xué)窗口 | 光學(xué)級藍寶石 |
關(guān)鍵材質(zhì) | 觸液面材質(zhì)：SUS316L、哈氏合金、鈦、PFA等;外殼：鋁合金、不銹鋼 |
輸入電源 | DC 24V或AC 220V |
信號輸出 | DC4至20mA&RS485;2至4路開關(guān)量信號輸出 |
防爆等級 | 防爆型產(chǎn)品的防爆等級：ExdIIBT4/T6 或 ExdIICT4/T6 |
防護等級 | IP65 |
工藝壓力 | ≤1.0 MPa（10Bar）更高壓力等級可定制 |
過程連接 | DN25規(guī)格的旁路管道安裝 |
標定標準 | 內(nèi)置在線建模軟件，根據(jù)理化數(shù)據(jù)標定校準 |
清洗選項 | 可選窗口自動清洗組件，清洗周期可調(diào) |
