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廣電計量檢測集團股份有限公司

Novascan臺式紫外臭氧清洗機 紫外臭氧清洗儀

參考價 100
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱邁可諾技術有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號PSD-UV8
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質代理商
  • 更新時間2022/10/3 9:29:51
  • 訪問次數(shù)543
在線詢價收藏產(chǎn)品 點擊查看電話

 邁可諾公司全稱“邁可諾技術有限公司”,英文簡稱“MYCRO”。這是一家富有創(chuàng)新精神的化高科技公司,專業(yè)提供光電半導體化工實驗室所需設備耗材的全套解決方案提供商,公司網(wǎng)址為 。  作為工業(yè)實驗室市場領域的,邁可諾從事開發(fā)、設計、生產(chǎn)并營銷質量可靠的、安全易用的技術產(chǎn)品及優(yōu)質專業(yè)的服務,幫助客戶和合作伙伴取得成功?! ∵~可諾成功的基礎是幫助客戶做出更好的選擇和決定,尊重他們的決定,并協(xié)助他們實現(xiàn)高效率的科研成果,追求豐富有意義的生活。

主營產(chǎn)品:勻膠機,旋涂儀,甩膠臺,勻膠臺,涂層機,涂膠機,涂膜機,旋轉涂敷儀, HPC,PPC, PAC,SCE系列等離子清洗機, Cargille光學試劑,光刻機/曝光機,壓力機, 壓片機, 熱壓機,WABASH熱壓機, CARVER熱壓機,LAURELL勻膠機、HOT PLATE熱板 烤膠機
Laurell勻膠機
 Harrick等離子清洗機
 Carver手動壓片機
 Uvitron紫外固化箱
 Novascan紫外臭氧清洗機
 Wenesco/EMS/Unitemp加熱板
 Kinematic程序剪切儀
Laurell EDC系統(tǒng),濕站系統(tǒng)
 NXQ光刻機
 Anatech等離子系統(tǒng)
 Wabash/Carver自動壓片機

光學試劑,勻膠機,等離子清洗機,熱板,光刻機,壓片機
加工定制 適用對象 實驗室半導體清洗
應用領域 儀器儀表 UV燈尺寸 8×8
PSD系列產(chǎn)品是數(shù)字控制的臺式清洗設備,可以提供4×4英寸至12×16英寸的清洗尺寸。設備配備一個帶反射罩的高強度UV格柵燈盤, 和可調節(jié)高度的樣品臺,用于優(yōu)化樣品位置和清洗效果。4英寸或者更大尺寸的系統(tǒng)具有進出氣接口。該系統(tǒng)由一個方便的預設置控制器控制,非常容易操作。
Novascan臺式紫外臭氧清洗機 紫外臭氧清洗儀 產(chǎn)品信息

PSD系列產(chǎn)品是數(shù)字控制的臺式清洗設備,可以提供4×4英寸至12×16英寸的清洗尺寸。設備配備一個帶反射罩的高強度UV格柵燈盤和可調節(jié)高度的樣品臺,用于優(yōu)化樣品位置和清洗效果。4英寸或者更大尺寸的系統(tǒng)具有進出氣接口。該系統(tǒng)由一個方便的預設置控制器控制,非常容易操作。
Ø 預設置的數(shù)字控制器
Ø 方便簡單的兩按鍵操作
Ø 自動工作:15.30.60.120分鐘
Ø 工作進程可以在任何時候手工終止
Ø 系統(tǒng)不能提供加熱盤選項
Ø 經(jīng)濟實用的設計使得PSD系列成為的選擇
Ø 容易安裝和使用

PSD Pro系列:

    PSDP 系列產(chǎn)品是研究級的紫外臭氧清洗系統(tǒng),具有*的靈活性,能滿足有機分子去除和其他眾多的應用??梢灾苯釉诳諝庵胁僮?,或是通過其中一個進氣口通入氧氣來增加臭氧產(chǎn)生??删幊虜?shù)字控制器可以控制系統(tǒng)進程,來確保精確時間和優(yōu)化清洗參數(shù)。
可編程數(shù)字控制器
數(shù)字顯示倒計時
輕松升級到熱盤選項
可執(zhí)行暫停和終止指令
內部存儲器用于記錄之前的參數(shù)設置
一個強大的系統(tǒng),提供了增強的進程控制!

一般特性:
 源:100.120.220.240VAC.50-60周期。
樣品高度:所有系統(tǒng)都配置可調節(jié)高度的樣品臺,調節(jié)燈與樣品之間的間距,并帶位置鎖定,標準樣品臺尺寸為UV格柵燈大小或更大。
UV格柵燈:產(chǎn)生臭氧的低壓汞格柵燈,帶反射罩。燈管壽命大約為5000小時。
UV反射罩:UV反射罩一般比UV格柵燈大一英寸。比如4×4英寸燈管反射罩尺寸是5×5英寸。
樣品放置:打開清洗腔上蓋,露出樣品臺,允許360度裝入樣品。
安全裝置:當清洗腔打開時,系統(tǒng)安全鎖會關掉UV燈。
進出氣口:標準配置2個氣接口,可選更多。
反應腔:選項客戶化定制,鋁或石英材料。
臭氧中和器:中和器用于臭氧排除。(PSDPSDP選項)
工作原理:PSD系列產(chǎn)品通過產(chǎn)生185nm254nm高強度UV光分解有機分子(污染物)。185nm的光可以將氧分子O2轉變成活性的O3臭氧分子。254nm的光同時激發(fā)表面的有機分子,使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在時間短并且同時也被254nm光分解,樣品臺可以調節(jié)樣品到燈管的距離來優(yōu)化性能。PSDPSDP分解有機污染物,然后形成CO2H2O蒸氣,同時也將臭氧分子轉變成氧分子。

關鍵詞:清洗設備
15700106413
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